力士科技股份有限公司
台灣MOSFET技術集成電路設計之先驅
MOSFET製程主要使用先進的0.25/0.18/0.13 µm製程技術,全方位應用在低壓及中﹑高電壓領域。
我們擁有類比積體電路﹑MOSFET ﹑肖特基二極體和被動零件等銷售項目,在Co- Pak或COB達到最有效的管理和應用。
我們擁有MOSFET ﹑類比積體電路最佳設計及製程整合技術團隊。
- 公司名稱:力士科技股份有限公司
- 成立時間:2006年9月1日
- 主要股東:斐成企業股份有限公司和鍾明道
- 董事會成員:6 位董事 (鍾明道, 謝福淵等)
- 公司核心:研發設計和銷售溝槽式金氧半電晶體和類比IC
- 技術:0.25/0.18/0.13µm 的溝槽式金氧場效電晶體
0.35/0.5 µm 的類比積體電路
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